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アルゴリズムコンテストの概要
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pdf版はこちら ⇒
( pdf )
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画像応用技術専門委員会では，画像を用いた外観検査技術の発展を図るため，
研究者・技術者が共通で使える外観検査画像データベースの構築を進めつつ，
その一環として外観検査アルゴリズムコンテストを2001年より実施しております．
お陰様で実際の製造現場で生じる画像をそのまま使用した
他に例を見ないユニークなコンテストとして，広く認知されるようになって来ました．
第8回目の今年は，
産業界でのニーズも非常に高い半導体パターン上の欠陥を種類ごとに分類する
アルゴリズムのコンテストを実施します．
優秀作品(最優秀賞(1名)，優秀賞(2名)，学生奨励賞(1名)，特別賞(若干名))は
12月に開催されるビジョン技術の実利用ワークショップ（ViEW2008）で表彰致します．
また今回より匿名による応募もお認めすることになりました．
これまで諸事情で応募を躊躇されていた方は是非，ご活用下さい．
まずは，
2008年8月1日(金)
までにエントリーをお済ませ下さい．
作品提出は2008年9月26日(金)までとなっております．
皆様の挑戦をお待ち致しております．
課題
⇒( 詳細はこちら )
| 半導体パターン上の欠陥分類 |
| 検査対象：パターン付きウエハ |
| 検査目的：画像中央に位置する欠陥を，
予め決められた数種類のカテゴリーに分類 |
| 評価項目：欠陥分類の正解率および処理時間 |
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